咸阳陶瓷研究设计院科源窑炉---热工装备中心
真空CVD化学气相沉积专用设备主要用于实验室新型碳材料和膜材料的气相沉积实验,属于管式真空炉。

科源化学气相沉积炉的主要特性：

CVD气相沉积炉烧结温度可达1150℃,;可配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通

过三路高精度质量流量计控制不同气体,是为石圆生长、研发的专用炉,也同样通用于要求升、降温速度

比较快的CVD实验，可以实现单片沉积也可以实现连续沉积。

设备特点：

1.炉体采用真空浇筑技术，外部为轻质耐火材料，热效率高

2.开启式盖设置,降低沉积温度、加快沉积速度

3.日本进口温控仪表,64控温程序,分段式加热控制

4.双极旋片真空原+分子原,实取对真空度的不同要求,极限真空可达10E-4pa

5.加热区稳定温度可达1150℃

6.工作电压:AC220v50/60Hz;功率;4KW

7.炉体采用高纯石英管,高温下化学稳定性强,耐腐蚀,热膨胀系数极小

咸阳陶瓷研究设计院科源窑炉是一家专业针对稀土功能材料，超容碳、活性炭材料、高性能靶材，先进储能材料，先进碳材料，锂离子电池材料，高端金属结构材料等新兴材料专用炉开发，设计，制造，销售，服务的国营高科技公司。

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