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氧化亚硅cvd高温真空炉

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楼主 发表于:2020-10-21 15:59:42
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咸阳鸿峰 一氧化亚硅气相包覆碳(CVD)炉~HF-RL系列

                                                                       

气相沉积炉(CVD炉)炉介绍:

用途:该设备专业应用于硅碳的使用气相沉积法的电阻炉

(1) 该设备为咸阳鸿峰窑炉设备有限公司自主设计的专业应用于硅碳负气相沉积法制备

(2) 该设备使用客户众多

(3) 该设备经过实践验证,运行稳定,温控精度高,密封性好,能耗低

(4) 该设备比别的设备同等工艺做出来的材料品质高20%以及以上

(5) 该设备一致性好,经过长期验证,做出来的材料品质变化较小

(6) 该设备经过大量客户的反馈,我司可以不用去人到现场的情况下恢复设备初品质

型号

加热区Φ×L(mm)

功率

温度

温区

外形尺寸L×W×H(mm)

HF-RL15.200

150×1000

12kw

950

3

3000×900×1600

HF-RL20.300

200×2000

30kw

950

3

5000×1000×2200

HF-RL30.500

300×3000

54kw

950

6

7500×1000×2500

HF-RL40.700

400×5000

96kw

950

6

10000×1200×2500

HF-RL50.800

500×6000

168kw

950

6

11500×1400×2500

HF-RL60.1000

600×8000

234kw

950

9

14000×1500×2600